珠海MOS管回收价格

更新时间: 2025-03-11

珠海MOS管回收价格，理论上金氧半场效晶体管的栅极应该尽可能选择电性良好的导体，多晶硅在经过重掺杂之后的导电性可以用在金氧半场效晶体管的栅极上，但是并非完美的选择。金氧半场效晶体管使用多晶硅作为的理由如下：

金氧半场效晶体管的临界电压（threshold voltage）主要由栅极与沟道材料的功函数之间的差异来决定，而因为多晶硅本质上是半导体，所以可以借由掺杂不同极性的杂质来改变其功函数。更重要的是，因为多晶硅和底下作为沟道的硅之间能隙相同，因此在降低PMOS或是NMOS的临界电压时可以借由直接调整多晶硅的功函数来达成需求。反过来说，金属材料的功函数并不像半导体那么易于改变，如此一来要降低金氧半场效晶体管的临界电压就变得比较困难。而且如果想要同时降低PMOS和NMOS的临界电压，将需要两种不同的金属分别做其栅极材料，对于工艺又是一个很大的变量。

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硅—二氧化硅接面经过多年的研究，已经证实这两种材料之间的缺陷（defect）是相对而言比较少的。反之，金属—绝缘体接面的缺陷多，容易在两者之间形成很多表面能阶，大为影响组件的特性。

多晶硅的熔点比大多数的金属高，而在现代的半导体工艺中习惯在高温下沉积栅极材料以增进组件性能。金属的熔点低，将会影响工艺所能使用的温度上限。

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